一氧化碳原位激光過程氣體分析儀

簡要描述：一氧化碳原位激光過程氣體分析儀GasTDL-3100是基于可調(diào)諧半導體激光吸收光譜技術(shù)（TDLAS）的高性能光學分析儀器，采用對射式設(shè)計，可用于工業(yè)過程氣體控制；其響應時間快速，在原位式測量中一般以秒計算，避免采樣式測量帶來的時間延遲，可在線及時的反應被測氣體濃度。

產(chǎn)品型號：GasTDL-3100
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新日期：2025-02-25
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氣體分析儀器

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一氧化碳原位激光過程氣體分析儀

一氧化碳原位激光過程氣體分析儀GasTDL-3100是基于可調(diào)諧半導體激光吸收光譜技術(shù)(TDLAS)的高性能光學分析儀器，采用對射式設(shè)計，可用于工業(yè)過程氣體控制；其響應時間快速，在原位式測量中一般以秒計算，避免采樣式測量帶來的時間延遲，可在線及時的反應被測氣體濃度。

一氧化碳原位激光過程氣體分析儀產(chǎn)品特性：

· 采用TDLAS技術(shù)，被測氣體不受背景氣體交叉干擾

· 原位安裝，無需采樣預處理系統(tǒng)

· 響應快速(T90≤1s)，可實時反應氣體濃度

· 實時在線測量，氣體濃度不易失真，測量精度高

· 在高溫、高粉塵、高水分、高腐蝕性、高流速等惡劣測量環(huán)境下具有良好的適應性

· 隔爆防爆設(shè)計，安全系數(shù)高

· 構(gòu)造簡潔，無可動元件，無損耗元件，免維護

技術(shù)參數(shù)：

性能參數(shù)
測量組份	O2、CO、CO2、CH4*
測量原理	TDLAS
測試范圍	O2:(0 ～ 5)%VOL （可定制100%） CO:(0 ～ 100)%VOL CO2:(0 ～ 100)%VOL CH4:(0 ～ 20)%VOL
精度	≤±1%F.S.
重復性	≤±1%
量程漂移	≤±1%F.S.
分辨率	0.01%VOL
響應時間	T90≤1s
工作參數(shù)
防爆等級	Ex db IIC T6 Gb / Ex tb IIIC T80℃ Db
安裝方式	原位安裝
環(huán)境溫度	（-20～ +60）℃
工作電源	24V DC，24W
吹掃氣體	（0.3～ 0.8）MPa工業(yè)氮氣
接口信號
通訊	RS485、RS232
輸出模式	2路4-20mA輸出 3路繼電器輸出
*注釋：每套分析儀測量單一組分氣體濃度

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